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离子束复合沉积万博最新体育app技术

Ion Beam Assisted Deposition
利用溅射靶在工件表面沉积膜层(如软金属Pb、Ag、WS2/MoS2),同时或者交替采用具有不同能量的离子束对工件上的沉积膜层进行原位轰击、反冲注入、溅射等,得到结合力远远强于磁控溅射沉积的致密膜层。 主要技术特点:1、         膜层均匀致密;2、              可形成冶金结合、膜基结合力;3、              好薄膜成分灵活可控;4、              易形成新型化合物、表面合金相。 0-3.jpg